日本OTSUKA大塚西南代理分光干涉式厚度计对晶圆等的研磨抛光过程进行非接触式超高速实时高精度测量。

日本OTSUKA大塚西南代理分光椭偏仪FE-5000除了能够进行高精度薄膜解析的分光椭偏测量，通过实现测量角度的自动可变机构，本设备可以应对各种类型的薄膜。除了传统的旋转检测光子法，通过设置位相差板的自动装卸机构，提高了测量精度。

日本OTSUKA大塚西南代理线扫描膜厚仪晶圆用半导体的研究开发以及生产现场中，能够在晶圆基板上的薄膜进行全表面测量的装置。 通过结合独自的分光干涉法和新开发的高精度膜厚演算处理技术，可以高速测量12英寸晶圆的面内分布。

日本OTSUKA大塚西南代理线扫描膜厚计在线型是一款能够在在线生产现场对薄膜厚度进行全幅、全长度测量的装置。 通过结合我们独自的分光干涉法和新开发的高精度膜厚计算处理技术，能够在最短0.001秒的测量间隔内对500mm宽度（单台使用时）的薄膜厚度进行测量。

日本OTSUKA大塚西南代理膜厚测定用MCPD6800是依托其标志性“瞬间多通道测光”技术打造的高性能光谱干涉式膜厚检测系统，专为半导体、显示面板、功能薄膜等行业的高精度膜厚质控场景设计，是兼顾实验室研发与工业在线监测的通用型膜厚检测产品。

日本OTSUKA大塚西南代理膜厚测定用MCPD9800是依托其标志性“瞬间多通道测光”技术打造的高性能光谱干涉式膜厚检测系统，专为半导体、显示面板、功能薄膜等行业的高精度膜厚质控场景设计，是兼顾实验室研发与工业在线监测的通用型膜厚检测产品。