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更新时间:2026-06-30
厂商性质:代理商
访 问 量 :10
028-68749778
产品分类
| 品牌 | OTSUKA/日本大塚 | 价格区间 | 面议 |
|---|---|---|---|
| 产地类别 | 进口 | 应用领域 | 综合 |
日本OTSUKA大塚西南代理分光晶圆厚度计SF-3

日本OTSUKA大塚西南代理分光晶圆厚度计SF-3
日本OTSUKA大塚电子SF-3系列分光晶圆厚度计,是专为半导体晶圆研磨、抛光制程打造的非接触式实时厚度监测旗舰设备,依托光谱干涉分析引擎,突破传统离线抽检的滞后性痛点,实现晶圆加工全流程的厚度动态闭环管控,是当前300mm、450mm先进制程晶圆产线的主流标配测厚方案。
这款设备采用光学式非接触无损检测设计,通过采集晶圆上下表面的反射光干涉光谱,结合大塚自研的解析算法完成厚度换算,全程无任何物理接触,避免传统接触式测头可能造成的晶圆表面划伤、破片风险,适配硅片、化合物半导体等各类脆性晶圆的加工场景。全系列覆盖多档位测厚量程:硅片测厚范围从5μm到1300μm,树脂/临时键合胶层测厚范围从10μm到2600μm,可同时完成最多5层不同材质的分层厚度解析,精准识别TSV通孔结构上的硅层厚度,适配临时键合晶圆的多层厚度同步检测需求。
SF-3的核心性能匹配先进制程的严苛要求:最小采样周期可达5kHz(200μs),在CMP化学机械抛光、背面研磨的高速加工过程中,可实现毫秒级的实时厚度反馈,测量重复精度稳定控制在0.01%以内,测量光斑仅φ20μm,能精准捕捉晶圆局部的微小厚度偏差。设备搭载最长200mm的长工作距离光学探头,无需贴近加工工位即可完成稳定检测,大幅降低设备集成难度,可直接嵌入研磨机、抛光机、湿法刻蚀设备的内部工位,无需对现有产线结构进行大规模改造。
全系列标配LAN网口与I/O输入输出端子,支持通过TCP/IP协议对接产线主控系统,实时将厚度数据上传至产线PLC,自动调整研磨进给速度,实现厚度的闭环控制,还可自动生成晶圆全域厚度分布Mapping图,直观展示整片晶圆的厚度均匀性。系列内细分SF-3/200、SF-3/300、SF-3/800、SF-3/1300四款机型,分别对应不同量程需求,适配8寸、12寸乃至下一代450mm晶圆的全场景检测。