日本OTSUKA大塚西南代理膜厚监测仪FE-300F是一款通过高精度的光干涉法进行膜厚测量的小型且价格低廉的膜厚计，实现了简单操作。
我们采用了将所需设备集成在主机内的多功能型结构，从而实现了稳定的数据获取。
尽管价格低廉，但通过获取绝对反射率，也能够进行光学常数的解析。

日本OTSUKA大塚西南代理膜厚监测仪FE-300F

日本OTSUKA大塚西南代理膜厚监测仪FE-300F

日本OTSUKA大塚电子FE-300F薄膜厚度监测仪，是面向工业现场与常规实验室推出的紧凑型非接触膜厚测量设备，以“小型化、高精度、易操作"为核心设计理念，在兼顾专业级检测能力的同时大幅降低使用门槛，是薄膜生产、涂层质控场景的高性价比优选方案。

这款设备依托大塚电子自主研发的高精度光学干涉分光技术，通过采集样品表面与基底界面的反射干涉光谱，结合峰谷法、频率分析法、非线性最小二乘法等多种解析算法，无需接触样品即可完成无损测厚，避免传统接触式测厚可能造成的软膜、超薄涂层划伤问题。它的测量光斑仅为φ1.2mm，可覆盖3nm至35μm的宽量程范围，既可以精准检测纳米级的光学功能膜，也能满足微米级厚涂层的测量需求，同时支持最多10层多层膜的同步解析，还可同步输出折射率n、消光系数k等光学常数参数。

FE-300F机身尺寸仅为W85.6×D225～235×H151mm，整机重量仅2.76kg，体积小巧便于在产线工位、实验台有限空间内灵活布置，工作温度适配-10℃至+50℃的宽温环境，可适应工业车间的复杂工况。设备操作流程经过大幅简化，无需专业光学背景的操作人员也能快速完成参数设置与测量，单次检测最快仅需0.1秒，适配产线在线抽检的效率要求。

它的适用场景覆盖极为广泛：功能薄膜领域可检测ITO透明导电膜、AR增透膜、PET保护膜、硬涂层、防指纹膜等；半导体领域可适配硅片氧化膜、氮化膜、光刻胶、SiC/GaN等化合物半导体薄膜；同时也能满足DLC类金刚石涂层、光学滤光片、FPD显示面板有机膜等场景的检测需求。