日本OTSUKA大塚 嵌入式膜厚监测器

日本OTSUKA大塚 嵌入式膜厚监测器

日本OTSUKA大塚 嵌入式膜厚监测器

日本OTSUKA大塚嵌入式膜厚监测器是一款集高精度、高速度与多功能性于一体的光学测量设备，广泛应用于半导体、显示面板、光学材料及薄膜制造等领域。

该监测器采用光干涉法，通过测量薄膜上下表面反射光的光程差引起的干涉现象，结合紫外到近红外波段的光谱分析，精确计算膜厚、折射率（n）和消光系数（k）。其核心优势在于非接触、非破坏性测量，避免了对样品的损伤，同时支持多层膜解析，最多可分析50层薄膜结构，满足复杂薄膜分析需求。

产品特点显著：其一，高精度与高再现性，量测紫外到近红外波段内的反射率，确保测量结果的准确性；其二，高速测量，单点对焦加量测在1秒内完成，大幅提升生产效率；其三，操作简便，配备直观的软件系统，初学者也能轻松完成光学常数分析；其四，灵活性强，量测头可自由集成到客户系统中，支持各种inline定制化需求。

在应用场景方面，该监测器表现。在半导体行业，可精确测量SiO₂、SiN等绝缘膜以及光刻胶的厚度，助力工艺控制；在FPD行业，能分析彩色光阻、ITO透明导电膜等关键材料的膜厚，确保显示质量；在光学材料领域，可测量滤光片、抗反射膜等薄膜的光学常数，优化产品性能。

此外，该监测器还具备强大的兼容性，支持多种波长范围和膜厚测量范围的选择，如OPTM-A1、A2、A3等型号，分别适用于不同厚度的薄膜测量。同时，设备通过NIST认证标准样品校准，确保测量结果的可追溯性，精度达±0.2%，重复性0.1nm。