日本OTSUKA大塚智能膜厚仪 SM-100系列
「便携式手提类型」1.1公斤，轻便易携带
「高精度测量＆简单测量」最薄0.1 μm直到可以测量而无需刻度线
「多层膜也支持」可测量三层及以下的多层膜
「非破坏・非接触测量」不会伤害样品也能进行测量
「 다양한サンプルを測定」基材（玻璃・塑料）を選ばず測定可能

日本OTSUKA大塚智能膜厚仪 SM-100系列

日本OTSUKA大塚智能膜厚仪 SM-100系列

日本OTSUKA大塚显微分光膜厚计FE-300F系列是一款集高精度、高速度与多功能性于一体的光学测量设备，广泛应用于半导体、显示面板、光学材料及薄膜制造等领域。

‌核心技术与原理‌
FE-300F系列基于光学干涉原理，通过测量薄膜上下表面反射光的光程差引起的干涉现象，结合紫外到近红外波段的光谱分析，精确计算膜厚、折射率（n）和消光系数（k）。设备支持峰谷法、频率分析法、非线性最小二乘法等多种分析算法，可应对不同材料与测量需求。其核心优势在于非接触、非破坏性测量，避免对样品造成损伤，同时支持多层膜解析（最多10层），适用于复杂薄膜结构分析。

‌性能参数与型号选择‌
FE-300F系列提供多款变体以适应不同测量场景：

• ‌FE-300V（标准型）‌：波长范围450-780nm，膜厚范围100nm-40μm，适用于常规薄膜测量。

• ‌FE-300UV（薄膜型）‌：波长范围300-800nm，膜厚范围10nm-20μm，针对超薄膜设计，满足半导体、光学镀膜等高精度需求。

• ‌FE-300NIR（厚膜型）‌：波长范围900-1600nm，膜厚范围3μm-300μm，适用于厚膜或吸收性材料测量。
  设备测量时间仅需0.1-10秒，光斑直径约3mm，支持8寸晶圆测量，并配备USB通信接口，操作便捷。

‌功能特点与用户体验‌
FE-300F系列采用一体化设计，体积小巧、价格亲民，同时继承了系列的核心功能。软件界面直观，提供初学者解析模式，简化复杂建模流程，即使新手也能快速上手。设备支持反射率测量、光学常数分析，并可通过NIST认证标准样品校准，确保测量结果可追溯，精度达±0.2%。此外，设备可自由集成至客户系统，满足在线检测需求。

‌应用场景与行业价值‌
在半导体领域，FE-300F系列可精确测量SiO₂、SiN等绝缘膜及光刻胶厚度，助力工艺控制；在显示面板制造中，设备可分析ITO薄膜、彩色抗蚀剂（RGB）及OLED封装材料厚度，确保显示质量；在光学材料与薄膜行业，设备支持AR膜、HC膜、DLC涂层等材料的厚度与光学常数分析，为产品性能优化提供数据支撑。