日本OTSUKA大塚线扫描膜厚计®离线型
可以检查薄膜等表面膜厚不均
可以快速且高精度地进行全面测量
膜厚测量的专门制造商所提供的充实支持
分光测量进行高精度的膜厚测量
硬件和软件均为原创设计

日本OTSUKA大塚线扫描膜厚计®离线型

日本OTSUKA大塚线扫描膜厚计®离线型是一款专为离线检测设计的高精度、高效率膜厚测量设备。该产品采用线扫描技术，能够实现对薄膜样品的快速、非接触式测量，广泛应用于半导体、显示面板、光学材料及薄膜制造等领域。

‌核心技术与特点‌：

1. ‌线扫描测量方式‌：与传统的点测量方式不同，该设备采用线扫描技术，能够一次性测量整条线上的膜厚分布，大大提高了测量效率。

2. ‌高精度与高再现性‌：设备具备高精度、高再现性的测量能力，能够准确捕捉薄膜厚度的微小变化，确保测量结果的可靠性。

3. ‌非接触式测量‌：采用非接触式测量方式，避免了对样品的损伤，同时适用于各种形状和材质的样品。

4. ‌宽幅样品测量‌：可对应宽幅样品测量，满足大尺寸薄膜的测量需求。

5. ‌独立测量头设计‌：设备配备独立测量头，支持定制化集成到各种测量系统中，满足离线检测需求。

‌应用场景‌：

• ‌半导体行业‌：用于测量晶圆上的薄膜厚度，如SiO₂、SiN等绝缘膜，以及光刻胶的厚度控制。

• ‌显示面板行业‌：适用于LCD、TFT、OLED等显示器的薄膜测量，确保显示质量。

• ‌光学材料行业‌：用于测量滤光片、抗反射膜等光学薄膜的厚度和光学常数。

• ‌薄膜制造行业‌：支持各种薄膜材料的厚度测量，如AR膜、HC膜、PET膜等。

‌优势与价值‌：

该离线型线扫描膜厚计以其高效、精准的测量能力，为离线检测提供了强有力的支持。其非接触式测量方式保护了样品，同时宽幅测量能力满足了大规模生产的需求。此外，设备的独立测量头设计使得其能够灵活集成到各种测量系统中，实现自动化检测，提高了检测效率