日本OTSUKA大塚显微分光膜厚计OPTM系列
OPTM(オプティム)是利用显微分光进行微小区域绝对反射率测量的装置，能够实现高精度的膜厚和光学常数解析。
可以非破坏性、非接触性地测量各种薄膜、晶圆、光学材料等的涂层膜厚度或多层膜。测量时间可以达到每点1秒的高速测量。此外，还配备了即使初次使用也能轻松进行光学常数解析的软件。

日本OTSUKA大塚显微分光膜厚计OPTM系列

日本OTSUKA大塚显微分光膜厚计OPTM系列

日本OTSUKA大冢显微分光膜厚计OPTM系列是一款集高精度、高速度与多功能性于一体的光学测量设备，广泛应用于半导体、显示面板、光学材料及薄膜制造等领域。

核心技术与原理‌

OPTM系列基于显微分光干涉法，通过测量薄膜表面与基板界面反射光的光程差产生的干涉现象，结合紫外至近红外波段的光谱分析，精确计算膜厚、折射率（n）和消光系数（k）。其的反射对物镜技术可物理消除透明基板背面反射光的干扰，即使面对玻璃等透明基板，仍能实现高精度测量。此外，设备支持多层膜解析（最多50层），并可分析具有光学异向性的材料（如SiC），确保测量结果的准确性。

性能参数与型号选择‌

OPTM系列提供三款型号：OPTM-A1（波长230-800nm，膜厚1nm-35μm）、OPTM-A2（波长360-1100nm，膜厚7nm-49μm）、OPTM-A3（波长900-1600nm，膜厚16nm-92μm）。设备采用CCD或InGaAs感光元件，搭配氘灯与卤素灯双光源，确保光谱覆盖范围广。单点测量仅需1秒，光斑直径最小可达3μm，支持微区测量，最小测量区域直径仅10μm，适用于晶圆、FPD等复杂表面分析。

功能特点与用户体验‌

OPTM系列具备非接触、非破坏性测量优势，量测头可自由集成至客户系统，满足在线检测需求。软件界面直观，提供初学者解析模式，简化复杂建模流程，即使新手也能快速完成光学常数分析。设备标配自动XY平台，支持多点坐标输入与实时厚度分布图生成，平台尺寸达200mm×200mm，可检测12寸晶圆。此外，设备通过NIST认证标准样品校准，确保测量结果可追溯，精度达±0.2%，重复性0.1nm。

应用场景与行业价值‌

在半导体领域，OPTM系列可精确测量SiO₂、SiN等绝缘膜及光刻胶厚度，助力工艺控制；在显示面板制造中，设备可分析ITO薄膜、彩色抗蚀剂（RGB）及OLED封装材料厚度，确保显示质量；在光学材料与薄膜行业，设备支持AR膜、HC膜、DLC涂层等材料的厚度与光学常数分析，为产品性能优化提供数据支撑。