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日本武藏液晶滴下装置MLC-7500成都提供
产品简介:

日本武藏液晶滴下装置MLC-7500成都提供
武藏MLC-7500是专为高世代液晶面板制造设计的精密滴胶系统,支持G8.6(2250×2600mm)超大基板,适用于OLED/LCD面板的真空封装工艺。其核心优势包括:‌纳米级精度‌:单滴液量控制低至0.1μg,位置偏差<±15μm‌高效真空环境‌:三级真空腔体实现90秒快速抽真空智能补偿‌。

产品型号:

更新时间:2025-06-28

厂商性质:代理商

访 问 量 :582

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产品介绍
品牌MUSASHI/武藏产地类别进口

日本武藏液晶滴下装置MLC-7500成都提供

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产品定位

MLC-7500是武藏面向‌高世代液晶面板制造‌开发的真空环境精密滴下系统,专注于‌大尺寸OLED/LCD面板的液晶封装(One Drop Fill, ODF)工艺‌。其核心突破在于实现‌8.6代线(2250×2600mm)基板的全自动滴胶‌,定位精度达±0.03mm,解决了国产面板产线在超大尺寸工艺段的设备空白。


核心技术突破

1. ‌纳米级滴量控制

  • 采用‌压电陶瓷喷射阀+激光测微反馈系统‌,单滴液量控制范围 ‌0.1-100μg‌(分辨率0.01μg)

  • 支持超高粘度液晶材料(≤50,000cps),滴落位置偏差<±15μm(G8.6基板全域)

2. ‌真空环境协同

  • 集成‌三级真空腔体‌:

    • 预真空室(10⁻² Pa)→ 主工艺室(10⁻³ Pa)→ 缓冲过渡室

  • 从大气环境到作业真空态转换时间≤90秒(较上代MLC-650提速40%)

3. ‌智能路径规划

  • 动态滴落补偿算法‌:

    • 实时修正基板翘曲(最大补偿量±0.5mm)

    • 消除液晶扩散干涉(相邻滴落点间距误差≤3μm)

  • 支持复杂图形滴胶(环形/渐变密度分布)


关键性能参数

项目MLC-7500行业标准要求
适用基板G4.5-G8.6(最大2600×2250mm)G6-G8.5
滴胶速度≤0.8秒/滴(连续模式)≤1.2秒/滴
滴量一致性CV≤1.5%(100μg基准)CV≤3%
氧气浓度控制≤5ppm(工艺腔内)≤20ppm
产能800片/天(G8.6基板)500片/天

应用场景与客户价值

  • 量产案例‌:

    • 国内G8.6 OLED产线(滴胶良率99.92%)

    • 日本某企业车载曲面屏项目(厚度均匀性±0.8μm)

  • 成本优化‌:

    • 液晶材料浪费率<0.3%(传统工艺约2-5%)

    • 维护周期延长至4,000小时(行业平均2,500小时)


与上代机型(MLC-650)的技术代差

升级点MLC-7500MLC-650
真空系统干泵+分子泵复合机组机械旋片泵
运动机构线性电机驱动(纳米级编码器)伺服电机+滚珠丝杠
滴胶阀寿命50亿次(自润滑陶瓷组件)20亿次
数据接口SECS/GEM通信协议RS-232C

服务支持体系

  • 本地化部署‌:

    • 中国苏州技术中心(含Class 100洁净实验室)

    • 日籍工程师常驻服务(重大产线调试)

  • 智能运维‌:

    • AR远程辅助系统(故障诊断响应<30分钟)

    • 关键部件剩余寿命预测(误差<5%)

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